Obsah:
Trocha historie...
Proč elektrony?| Repliky Metody přípravy otisků patřily k nejvíce užívaným v začátcích elektronové mikroskopie. V poslední době je tato poněkud složitá metoda využívána vzácně, nejčastěji v kombinaci s metodou mrazového leptání. Otisky se dělí na jednostupňové a dvoustupňové, pozitivní a negativní (obr. 1) Jednostupňový pozitivní otisk se utvoří tak, že objekt se ve vakuu nejprve šikmo nastínuje kovem a pak se na něj kolmo napaří silnější krycí vrstva uhlíku. Replika se potom splaví nebo sejme pomocí plastické hmoty. Jednostupňový negativní otisk se připraví tak, že se na objekt kolmo napaří ve vakuu vrstva uhlíku a stínuje se až sejmutá replika. Není-li možné repliku jednoduše sejmout s objektu, musí se snímat jednostupňový otisk pomocí podpůrné vrstvy plastické hmoty, kdy se na repliku nanese 1% roztok kolodia v amylacetátu nebo 2% roztok formvaru v chloroformu a nechá se zaschnout. Potom se plastická hmota strhne pomocí samolepicí pásky, která se rozpustí v acetonu a podpůrná vrstva v amylacetátu nebo chloroformu. Dvoustupňový negativní otisk vznikne, pokud se na objekt nanese dostatečné množství výše zmíněných roztoků kolodia nebo formvaru a po zaschnutí se první stupeň repliky sejme pomocí samolepící pásky. Na otiskovou stranu se napaří ve vakuu vrstva uhlíku a tato uhlíková vrstva se šikmo nastínuje kovem. V závěru se rozpustí samolepící páska i plastická hmota. U pozitivního dvoustupňového otisku se po sejmutí repliky nejprve otisková strana postínuje kovem a pak se na ni napaří vrstva uhlíku. |
 Předchozí |
Další  |
 Literatura | |
Obrázky | |
 |
Obr.1 - Metody zhotovování otisků: 1- pozitivní jednostupňový otisk, 2- Negativní jednostupňový otisk, 3- Pozitivní nepravý jednostupňový otisk (na opačné straně stínovaný), 4- Negativní dvoustupňový otisk, 5- Pozitivní dvoustupňový otisk, A- objekt, B- stínovaná vrstva kovu, C- tenká uhlíková replika, D- silná primární replika plastické hmoty, E- silná podkladová vrstva plastické hmoty |
| Zpět | |